四氟化碳、三氟甲烷、三氟化氮电子行业中重要的蚀刻气体
作为新一代环保电子气体，电子级C4F6成为集成电路IC芯片等制造时必不可少的刻蚀气体，其GWP值几乎为0，而且能结束纳米级沟槽的加工，成为电子工业范畴内一把神奇的“刻刀”，比γ刀还γ！
2015年，浙化院特种气体研发团队提出自主开发新一代含氟电子气体C4F6的提纯技艺。
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在查阅了很多资料，理解了含氟二烯烃C4F6物化性质后，项目组开端检验C4F6提纯研讨。项目组首先探求了C4F6分子价键与电子云密度散布，计算了C4F6及其无机杂质分子特性，接着搜集重要数据，停止软件模仿。终于，在经过对C4F6及其杂质物性深化研讨分析后，项目组提出了立异的提纯办法。
随着项目使命的不时推进，困难也层出不穷。
其一，在原料杂质的分析定性成绩上，由于新化合物没有规范谱图，技艺人员与分析专家一同揣摩，寻觅其中的不同，终于判定首要杂质，为实验展开扫清了阻碍。
其二，C4F6是含氟烯烃，无机杂质与产品构造相近，分别难度大。为了占领该难题，项目组多次组织专题讨论会，张建君总经理停止翔实的技艺指点，从C4F6本身物化性质到纯化工艺操作，详细分析并修正相应的实验方案。
其三，针对无机杂质分别难度大的成绩，项目组停止了很多的验证实验，调查并重复优化了上百个配方，常常任务到深夜，最终选出了适用的高效吸附剂。
一同，在阅历试验室改造场所受限、设备提纯功能下降等一系列突发状况下，项目组仍不时调整设备参数、完善提纯工艺，结束了既定的C4F6提纯技艺开发使命，并停止了电子级C4F6样品消费。C4F6是一个附加值高，商业前景宽广的新品，国际不少同行都对其展开了研讨。
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