掌握半导体气体纯度标准
掌握半导体气体纯度标准
半导体工艺气体等级划分主要基于气体纯度等指标，具体标准如下：
1、大宗气体：
纯度要求：纯度在 3n 及以上（1n 表示纯度百分比 9 的个数，3n 即纯度达到
99.9% 上述)，气体中杂质含量相对较高。
应用领域：常用于一般半导体设备的生产环节，如辅助气体作为一些非关键工
艺步骤或提供一般气体环境。
2、高纯气体：
纯度要求：达到纯度 5n 及以上（即 99.999% 以上)，气体中杂质含量的控制
更加严格，金属元素等杂质需要净化到较低的浓度水平。
应用领域：适用于大型集成电路的制造，应用于一些对气体纯度要求较高的工
艺环节。例如，在半导体材料的沉积和延伸过程中，高纯气体可以保证工艺的
稳定性和产品质量。
3、电子气体(电子特气)：
纯度要求：一般要求满足要求 6n 及以上（即 99.9999% 以上)，一些先进的工
艺甚至需要更高的纯度，可能达到 ppb（10⁻⁹）甚至 ppt（10⁻12）级别。
应用领域:是半导体制造中的关键工艺气体，广泛应用于光刻、刻蚀、掺杂、气
相沉积、扩散等各种半导体工艺流程的核心工艺环节。例如，在刻蚀过程中，
氟基气体(如 CF₄、SF₆、C₂F₆、NF₃等）、氯基气体（Cl₂）和溴基气体（Br₂
、HBr）用于有选择地去除硅片表面不必要的材料。
简而言之，半导体工艺气体的等级划分对半导体制造的质量和性能至关重要，
不同等级的气体在半导体生产的不同环节中起着特定的作用。随着半导体技术
的不断发展，工艺气体的纯度和质量要求也在不断提高。
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